晟辉智能制造

  • 22纳米光刻技术如何突破极限?

    22纳米光刻技术如何突破极限?

    基于22纳米光刻技术的半导体制造工艺代表了集成电路产业从传统平面晶体管向三维结构过渡的关键节点,这一技术节点在2010年代初期由英特尔、台积电等厂商率先实现量产,标志着摩尔定律在物理和经济双重约束下的延续性突破,22纳米工艺的核心在于通过多...

    2025-12-20
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