MOCVD技术，全称为金属有机化学气相沉积（Metal-OrganicChemicalVaporDeposition），是一种先进的薄膜制备技术，主要用于在衬底（如硅、蓝宝石、碳化硅等）上外延生长高质量的化合物半导体薄膜，该技术通过将...
